Skin Naturals Lips Replump Mask maseczka do twarzy 5 g dla kobiet (Garnier)

Garnier Czysta Skóra Oczyszczająca maska na dzianinie przeciw niedoskonałościom 23 g

OCZYSZCZAJĄCA MASKA NA tkaninIE PRZECIW NIEDOSKONAŁOŚCIOM wzbogacona ekstraktem z drzewa herbacianego i kwasem salicylowym. Widocznie oczyszcza, zmniejsza pory, wygładza i matuje skórę*. Dla skóry tłustej z niedoskonałościami.

*Test konsumencki – 55 pań po 1 użyciu.

Korzyści:

wizualnie oczyszcza, zniża pory

Wygładza i matuje skórę

optymalna dla skóry tłustej z niedoskonałościami

Rezultaty:

Skóra jest wizualnie oczyszczona i wygładzona

SPOSÓB użycia: 1. Rozłóż maskę. Delikatnie nałóż ją na oczyszczoną skórę twarzy. Dopasuj do twarzy. 2. Pozostaw na 15 min, następnie zdejmij maskę. 3. Wmasuj pozostałości formuły w skórę twarzy, dekoltu albo usuń ją przy pomocy wacika. Wypróbuj także Czystą Skórę 3w1 z glinką dla głębokiego oczyszczenia skóry.

Skład:

AQUA / WATER • GLYCERIN • NIACINAMIDE • SALICYLIC ACID • GLYCERYL ISOSTEARATE • HYDROXYACETOPHENONE • DICAPRYLYL CARBONATE • POTASSIUM HYDROXIDE • CETYL ALCOHOL • HEXYLDECANOL • PEG-100 STEARATE • GLYCERYL STEARATE • AMMONIUM POLYACRYLOYLDIMETHYL TAURATE • XANTHAN GUM • CITRIC ACID • OCTYLDODECANOL • STEARIC ACID • PALMITIC ACID • SODIUM HYALURONATE • PARFUM / FRAGRANCE • CAPRYLOYL SALICYLIC ACID • MYRISTIC ACID • BENZYL SALICYLATE • LIMONENE • MELALEUCA ALTERNIFOLIA LEAF EXTRACT / TEA TREE LEAF EXTRACT • TOCOPHEROL • EUCALYPTUS GLOBULUS LEAF EXTRACT (F.I.L. C265534/2).

Listy elementów dla produktów są regularnie aktualizowane. Zapoznaj się z listą części na opakowaniu artykułu, gdzie za każdym razem znajduje się najistotniej aktualna lista elementów, żeby upewnić się, iż jest ona dla Ciebie optymalna.